プラズマクリーナーは細かな汚れを取り除きます

電子機器や半導体、レンズなどの製造過程で生じた細かな汚れを取り除く方法は、ウェット洗浄とドライ洗浄の2種類に分類できます。前者はアンモニアや塩酸、過酸化水素水や純水を使います。ウェット洗浄には洗浄槽に満たした薬液に対象物を浸す方法と、対象物を水平に置いて回転させスプレー状の薬液を吹きかける方法があります。薬液に浸す方法は静電気が発生せず細かな部分まで洗浄可能で、超音波やパブリングを併用すると高い効果が得られます。

スプレー状の薬液を吹きかける方法は再汚染が起こりにくいのがメリットです。ウェット洗浄の難易度はあまり高くないため気軽に行うことができますが、薬液を洗い流して乾燥させるには時間がかかります。超純水は高価なのでコストがかかるという点もウェット洗浄のデメリットです。精密機器は完成するまでに洗浄作業を何度も繰り返す必要があり、品質だけでなく生産性も向上させるには作業時間の短縮が必要になります。

ドライ洗浄を行うプラズマクリーナーを使えば、効率的に汚れを除去して生産性を向上させることができます。プラズマクリーナーは扱いが難しいというデメリットがありますが、上手く使いこなせば短時間で細かな汚れを取り除くことができます。製品の品質だけでなく生産性も向上させるため多くの工場でプラズマクリーナーが採用されています。この装置には主にアルゴンガスを使うRIEモードと酸素ガスを使うDPモードの2種類があります。

前者は加速したアルゴンイオンを有機物や無機物に衝突させて弾き飛ばし、後者は酸素原子が化学反応によって有機物を水分子と二酸化炭素に変えます。プラズマクリーナーは精密機器に付着した汚れを効率的に除去したい場合に最適な装置です。

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